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透射式光柵光路設(shè)計(jì)簡單，對(duì)于使用固定式光柵的應(yīng)用，透射光柵優(yōu)勢明顯，比如光譜儀。入射光束在光柵背面以固定角度發(fā)生色散。透射式光柵對(duì)一些類型的光柵準(zhǔn)直誤差不敏感。為了獲得高衍射效率，透射式光柵刻線密度不高。衍射角會(huì)隨刻線密度的增加而增大，基底材料的折射率限制了長波的透射率，從而導(dǎo)致性能降低。光柵的色散特性使其適用于使用小型探測器陣列的緊湊系統(tǒng)。這種光柵對(duì)于偏振也不敏感。

透射光柵分光片通常用于He-Ne激光束的分光和可見范圍內(nèi)多條激光的分離。透射的光束被衍射為多階。由在拋光玻璃基底上鍍的與之折射率相匹配的環(huán)氧樹脂復(fù)制層所構(gòu)成，以此獲得更高的總衍射效率。這些分束器專門設(shè)計(jì)用于He-Ne激光器分光。

平面刻線衍射光柵（12.7x12.7x6mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

平面刻線衍射光柵（25x25x6mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

立方分光棱鏡（寬帶增透400~700nm）與分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時(shí)，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會(huì)存在光束平移，鬼像以及干涉的困擾。用于分光及成像。45°角入射時(shí)無需長時(shí)間校準(zhǔn)。

立方分光棱鏡（寬帶增透700~1100nm）與分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時(shí)，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會(huì)存在光束平移，鬼像以及干涉的困擾。用于分光及成像。45°角入射時(shí)無需長時(shí)間校準(zhǔn)。

立方分光棱鏡（寬帶增透1100~1600nm）與分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時(shí)，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會(huì)存在光束平移，鬼像以及干涉的困擾。用于分光及成像。45°角入射時(shí)無需長時(shí)間校準(zhǔn)。